11月15日，国家知识产权局下发了《关于第十四届中国专利奖授奖的决定》。根据《中国专利奖评奖办法》的规定，经各地方知识产权局、国务院有关部门和单位、有关全国性行业协会以及中国科学院院士和中国工程院院士推荐，由中国专利奖评审委员会评审，中国科学院上海硅酸盐研究所的中国发明专利200410016143.8《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体的制作方法》获得第十四届中国专利优秀奖。
该项发明专利，采用低成本共沉淀方法，制备了兼具适合柔性成型的低比表面积性能和高烧结活性的氧化锆粉体，解决了以往国产低成本氧化锆粉体难以用于制备注射成型光纤连接器、流延成型多层共烧片式氧传感器、3D加工成型修复用义齿的技术难题。同时，粉体的主要技术指标通过浓缩和提炼，形成了JC/T 995-2006《低比表面积高烧结活性氧化锆粉体》等系列行业标准。这些行业标准解决了国内氧化锆粉体和相关精细陶瓷行业缺少统一技术规范，产品质量良莠不齐和稳定性差的现有难题，推动了国产氧化锆粉体的应用。
